MD 4C NT +AK+EK 化學真空系統(tǒng)

描述

該款化學真空系統(tǒng)廣泛應用于化學、生物和制藥實驗室的排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。系統(tǒng)可很好地滿足高沸點溶劑的真空需求。主要用于和旋轉蒸發(fā)儀或真空干燥箱等儀器連用。進氣口收集瓶（AK）為玻璃材質(zhì)，外覆保護膜，可以防止顆?；蛞旱芜M入泵內(nèi)。出氣口的廢氣冷凝器（EK）效率高，結構緊湊。該冷凝器可實現(xiàn)近100%的溶劑回收效果，可有效地循環(huán)利用溶劑，同時主動地保護環(huán)境。

性能特性

• 化學耐腐蝕性和蒸汽耐受性

• 在較高真空度下仍具有非常好的性能

• 使用氣鎮(zhèn)仍能達到很好的極限真空

• 排氣安靜，振動極低

• 高效的溶劑回收系統(tǒng)，使其成為一款環(huán)境友好的產(chǎn)品

MD 4C NT +AK+EK 化學真空系統(tǒng)技術指標：

Vacuubrand MD 4C NT +AK+EK化學真空系統(tǒng)是針對實驗室腐蝕性氣體處理設計的緊湊型解決方案，由耐化學腐蝕的MD 4C NT隔膜泵、AK酸性氣體中和器和EK化學捕集器組成。該系統(tǒng)采用全PTFE密封結構和陶瓷轉子，可耐受強酸、有機溶劑等腐蝕介質(zhì)（符合ISO 15859標準），極限真空達12mbar。AK中和器內(nèi)置特殊吸附劑有效處理酸性氣體，EK捕集器配備-20℃制冷單元和PFA冷凝腔，實現(xiàn)腐蝕性蒸汽的雙重防護。整機通過ATEX防爆認證，運行噪音<52dB(A)，特別適合實驗室規(guī)模的有毒化學合成和樣品前處理，其模塊化設計便于維護，標配真空度數(shù)字顯示和過載保護功能。